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使用超临界二氧化碳法从衬底上去除光刻胶及残渣.pdf

简介：一种从衬底上去除光刻胶和残渣的方法,它起始于保持超临界二氧化碳、胺和溶剂与所述衬底接触,使得所述胺和溶剂至少部分溶解光刻胶和残渣。优选地,所述胺是叔胺。优选地,所述溶剂选自DMSO、EC、NMP、乙酰基丙酮、BLO、醋酸、DMAC、PC和它们的混合物。 详细>
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