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用于在制造半导体过程中清洗光刻胶的清洗剂制品.pdf

简介：在制造半导体过程中的清洗剂制品的包括乳酸乙酯(EL)和3－乙氧基丙酸乙酯(EEP),最好,它还包括γ－丁内酯。因此,晶片边缘或背侧的光刻胶能以足够快的速度有效地除去,因而可以提高半导体器件的成品率。另外,可完全除去的附着在表面上的残留光刻胶,以便能再利用该晶片,因而获得晶片的再利用和经济用途。
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