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采用离轴照明用来光刻布线图案的掩模版.pdf

简介：在离轴照明光刻器具中掩模用来增大某些特征图形间的焦深和减小临界尺寸差别。第一掩模在孤立边缘邻近设置作为散射条的附加线214，其间距使孤立和密集的边缘梯度相匹配从而邻近效应可勿略，条宽能实现特征图形的最大焦深范围。第二掩模仅对四极式照明有效，它“抬高”了较小方形接触部的强度级和焦深范围使其接近于较大狭长接触部的强度级和焦深范围。第二掩模包含称为抗散射条的附加窗口。散射条和抗散射条都不会转印到抗蚀剂上。
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