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正性光刻胶.pdf

简介：可在含水碱性介质中显影的正性光刻胶组合物，包括(a)至少一种含酸不稳定的α-烷氧基烷酯基的均聚物或共聚物，(b)至少一种含羧基的共聚物，其羧基的含量为0.40-5.50mol/kg，(c)至少一种化合物，该化合物进行光化辐射曝光可形成酸，及(d)一种有机溶剂该组合物光敏度高，组分及其产生的涂层保存期长。尤其适用于印刷电路生产中的抗蚀剂。
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