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简介: 在上一期Newsletter中我们简单介绍了纳米压印光刻技术(NIL)。正是由于其具有分辨率高、生产速度快、低成本等特点,这种全新纳米图形复制技术获得了越来越多的关注。国内外众多研究所和高技术企业都在开展相关技术的研发,研究领域涉及下一代
简介: 在上一期Newsletter中我们简单介绍了纳米压印光刻技术(NIL)。正是由于其具有分辨率高、生产速度快、低成本等特点,这种全新纳米图形复制技术获得了越来越多的关注。国内外众多研究所和高技术企业都在开展相关技术的研发,研究领域涉及下一代半导体制造;微流体、微光学器件;生物医学;高密度存储;光子晶体等,技术已日臻成熟。 但这项技术在推广过程中,仍存在不少技术难题,这些问题极大限制了纳米压印技术在应用领域的推广。其中如何获得高质量模板是很多研究人员认为最有挑战的一项。实际上,纳米压印的高效、低成本是与模板加工的高难度相辅相成的,只不过是将这种复杂性从硅片生产上转移到压印模板加工上。 要获得纳米图形的压印模板,加工过程很复杂。 通常使用电子束(EBL)直写来进行加工,这样可以获得最高的分辨率。具体过程是,先在压模上涂上—层电子束光刻胶,然后用电子束制出高分辨纳米图案,再进行刻蚀、剥离等常规的图形转移技术,将电子束光刻分辨形成的图形转移到压模基底上。...... 您也可直接访问以下链接查看文章http://www.germantech.com.cn/new/xxlook.asp?id=1333
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