中文名称:在300 KeV 和 25 MeV 能量之间进行辐射加工用电子束设备中剂量测定的实施规程
英文名称:Dosimetry in an Electron Beam Facility for Radiation Processing at Energies between 300 KeV and 25 MeV, Practice for (12.02)
ICS分类:17.240
中标分类:F74
发布日期:2004-06-01
实施日期:2004-06-01
替代标准:ANSI/ASTM E1649-2000
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