ICP-MS 采样锥构成接口区的一部分，从大气等离子体中采集离子，并将其传输到高真空 MS 中进行检测。高品质采样锥对于保证 ICP-MS 的灵敏度和稳定性至关重要。
安捷伦镍尖或铂尖采样锥使用高纯度材料，能够尽可能减小背景并确保等离子体条件下的稳定性。它们按照严格的规格指标进行制造，并经过严格的测试，可确保获得优异的批次间重现性。孔口尺寸和尖端几何形状经过优化，并受到严格控制。
接口锥通常是 ICP-MS 常规运行中成本较高的备件。选择安捷伦原厂接口锥，有助于保护您的投资并确保易用性。
特性：
对于常规应用，选择具有出色的耐化学腐蚀性和长寿命的经济型 Ni 尖采样锥。
选择对腐蚀性基质具有化学耐受性，并且背景极低，满足痕量分析需求的 Pt 尖采样锥。
在分析含有 HCl、王水或 HF 的基质时，配备镀镍铜基座的采样锥的寿命更长、维护需求更少。
安捷伦原装接口锥经过 100% 质量检验，能够在整个质量范围内提供优异的灵敏度。
每次拆下采样锥时应检查石墨垫圈 (G3280-67009)，如有损坏，请进行更换
安捷伦提供便捷的 ICP-MS 接口锥放大镜 (5190-9614)，让检查锥孔口变得更简单，以实现可靠的接口锥性能。
工作原理：
ICP-MS 真空接口的作用
ICP-MS 接口具有两种相互冲突的作用：
将离子从大气压下的等离子体传输到质谱。
在真空区域保持尽可能低的压力。
一对接口锥包括了采样锥和截取锥，需有出色的设计以在提供良好的离子传输效率和维持高真空间取得平衡。采样锥是接口区域的第一个组件，负责对等离子体中生成的离子进行采样，并在随后的低压区域传输这些离子。
ICP-MS 接口的设计考虑因素
接口锥的尖端开有小孔用于离子传输。接口锥采用水冷处理，避免高温等离子体造成的损坏，直接接触等离子体的采样锥需要特别注意。接口锥尖端为镍或铂，耐化学腐蚀且背景低。接口的设计利于控制空间电荷效应，确保 ICP-MS 可达到高离子传输效率和高灵敏度，还能控制进入真空室的样品基质量。
ICP-MS 的基质耐受性和降低基质沉积导致的信号漂移
接口锥上的基质沉积主要受等离子体稳定性影响，CeO/Ce 比值越低越好。采样锥上的大量沉积物会导致信号漂移，因为孔口会被基质沉积物部分阻塞。安捷伦 ICP-MS 的 CeO/Ce 比约为 1.0%，对高基质样品可低至 0.3%。另一种降低基质沉积的方法是使用精心挑选的材料和优化的截取锥基座设计精确控制截取锥尖的操作温度。
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