放大倍数校准标样MRS-5 614-73 MRS-3/4/5清洗、重新镀膜

                           应用:M - SEM, SE和BSE模式、 SEM/FIB、TEM (特制)  扫描显微镜与表面轮廓仪- STM、AFM，图案高度为100nm光镜 – 透射、反射、明/暗场、相差、共焦  化学成像- EDS、WDS、XRF、XPS、Auger等，图案为100nm CrO2 和 Cr在石英上形成。

 粒径计算- 含用于校准的系列圆、方形和矩形图案 图案设计
MRS-3由高精密度直写电子束制造设备所制，石英上的图案为抗反射的Cr。

二次电子像和背散射电子像反差好。图案表面镀有特殊导电材料，使该标样适