660-615-F
认证的单晶硅标样,用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。认证的单晶硅标样,随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为20%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
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