光栅

Diffraction Gratings  衍射光栅

       Optometrics 公司有着四十多年衍射光栅设计和生产经验，在工业，教育，科研领域为各种各样的应用提供广泛的光栅选择。Optometrics公司自身的刻划技术能力以及生产和开发全息实验室，为客户应用提供最佳光栅选择。

       Optometrics公司是少有的几个既可以生产刻划光栅，也可以生产全息光栅的公司。

       用于光谱仪器的标准光栅包括刻划和全息复制两种。激光应用的标准光栅包括：用于分子激光器的高损伤阈值原始和复制光栅，用于染料激光器的全息掠入射光栅以及阶梯光栅。

丰富的光栅类型

● 刻划反射式光栅（UV, VIS,NIR）

● 全息反射式光栅

● 阶梯光栅

● 掠入射光栅

● 分子激光器（ML）光栅

● 透射式光栅（UV, VIS,NIR）

● 透射/反射式光栅分束器

Optometrics增加3D纳米成像对衍射光栅进行优化(原子力显微镜为衍射光栅生产提供了新的优化基准)

       Optometrics公司最近为其计量体系增加了扫描原子力显微镜（AFM），对衍射光栅优化设计中涉及的纳米测量，特性描述，操作处理技术树立了新的标杆。AFM增强了Optometrics对OEM客户的特殊支持和服务。

       AFM是Optometrics使用的几种精密制造和工程计量工具中的一种，用于了解光栅表现的缘由。在准备生产新的母光栅时，AFM通常用于对光栅刻槽的尺寸，形状，以及角度进行确认。同时作为取证工具用于帮助发现光栅性能异常原因。

        当用金刚石刀刻划或全息方法制作一个新的母光栅时，通过高分辨率成像工具检察，可以确认微观刻槽的形状和纹路是否优化和符合设计要求。下面是Optometrics生产的衍射光栅扫描图像。图像1为全息记录的1200刻线/mm紫外闪耀光栅。注意由AFM获得并确认的高清晰槽纹剖面。图像2为2180刻线/mm全息记录衍射光栅正弦槽纹剖面。

        在众多光谱仪器设计中，衍射效率和动态范围是至关重要的参数。了解为什么一个特定的衍射光栅可能有一个小的但却是必然的性能差异，对仪器设计的成功是很重要的。

        通常许多衍射光栅只是简单说明其原本的制作方式，刻线频率和闪耀波长 (如市面上通常标明的每毫米600刻线及闪耀波长400nm的刻划式光栅)。但是，不是所有刻划式的600刻线/mm闪耀波长400nm的光栅都相同。同样，用于复制光栅的“母光栅”会由于刻槽面的大小，形状或位置的异常，而导致性能的相互差异。正如下面两种不同的每毫米600刻线及400nm闪耀波长母光栅的衍射效率曲线所示，这些纳米级的差异可能在或窄或宽的光谱范围内显著影响光栅性能。

      您可以将您的具体光栅规格要求发给我们，我们可以提供光栅定制和常规产品技术规格供您参考。另外，Optometrics公司可以提供光栅检测服务，为您的光栅性能提升提供专业分析。

      详情请联系我公司销售人员。