单层二硫化钨-纳米尺寸单层二硫化钨

参数：

制备方法：锂基插层法

组成：单分子层，具有小尺寸的二硫化物

外观：黑色粉末或分散体

直径：20-500 nm

厚度：1纳米

单分子层比例：95%

Parameter:

Preparation Method：Lithium-based Intercalation Method

Composition: Monolayer Tungsten disulfide with small size

Appearance: Black powder or dispersion

Diameter: 20-500 nm

Thickness: ～1 nm

Monolayer ratio: >=95%

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