化学电离(CI) 源
因为CI 源的操作压力远比EI 源高，故与EI 相比，需要更经常地清洗。
只要出现与离子源污染相关的性能异常就应该清洗离子源。将分析性能作为您的指示。
当清洗CI 源时，要特别注意CI 推斥极、离子源体和拉出极板。确保清洗离子源体和拉出极板上的
0.5 mm 直径的孔。
清洗该离子源的方法非常类似于清洗EI 离子源的方法。采用EI 的清洗操作步骤，以下内容除外：
◇ CI 离子源可能看起来不脏，但是，化学电离留下的沉积物非常难以除去。彻底清洗CI 离子源
◇使用圆形木质牙签轻轻擦拭离子源体上的电子入口孔和拉出极板上的离子出口孔
◇不能使用卤代溶剂。最后一步清洗要使用己烷
5977/5975/5973/7000 MSD 化学电离源部件(CI)
| 项目 | 说明 | 部件号 |
| 1 | 透境组配套螺丝 | G1999-20022 |
| 2 | 螺帽，镀金 | G1999-20021 |
| 3 | 接口端密封件/弹簧 | G1999-60412 |
| 4 | 推斥极绝缘体 | G1999-20433 |
| 5 | 透镜绝缘体 | G3170-20540 |
| 6 | 拉出极柱体 | G1999-20444 |
| 7 | 拉出极板 | G1999-20446 |
| 8 | 5977 CI 350 推斥极组件 | G3170-60416 |
| 9 | 入口透镜组件 | G3170-20126 |
| 10 | 离子源体 | G1999-20430 |
| 11 | 离子聚焦透镜 | G1999-20443 |
| 12 | 推斥极 | G1999-20432 |
| 13 | 灯丝组件（CI），2/包 | G7005-60072 |
| 14 | 垫圈，SPR CRVD，内径 1.6 至 1.8 mm，外径 4 mm，不锈钢 | 3050-1375 |
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