X-ray应用薄膜窗口（X-Ray Windows）
有两种薄膜，低应力lpcvd氮化硅膜具很强机械强度，适合高温和差压环境；G-FLAT™氧化硅膜平坦无褶皱，非常适合x射线显微镜和需要无氮气背景的分析。这些薄膜窗口是X射线显微镜和x射线光谱学技术的理想衬底，经过等离子清洗，无有机污染。平坦、均匀沉积的薄膜具有低场到场可变性和高x射线透射性。
G-FLAT™氧化硅膜窗口，适合生物成像研究，具有玻璃状亲水表面。外框硅材质，外框大小5*5mm，框厚310μm，膜厚度300nm。无褶皱，与超高真空(UHV)应用兼容。
LPCVD氮化硅膜窗口，外框大小5*5mm，框厚320μm，200 MP 低应力无孔氮化硅。
产品信息：
货号 | 产品描述 | 窗口(Sq.) | 膜厚 | 规格 |
76042-10 | G-FLAT™ SiO X-Ray Window | 500μm | 100nm | 20/pk |
76042-11 | G-FLAT™ SiO X-Ray Window | 500μm | 300nm | 20/pk |
76042-12 | Silicon Nitride X-Ray Window | 500μm | 50nm | 20/pk |
76042-13 | Silicon Nitride X-Ray Window | 1000μm | 50nm | 20/pk |
76042-14 | Silicon Nitride X-Ray Window | 500μm | 100nm | 20/pk |
76042-15 | Silicon Nitride X-Ray Window | 1000μm | 100nm | 20/pk |
76042-16 | Silicon Nitride X-Ray Window | 1500μm | 200nm | 20/pk |
76042-17 | Silicon Nitride X-Ray Window | 2500μm | 200nm | 20/pk |
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