认证的单晶硅标样

                           用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。

随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为27％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。