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要求较低,图像拼接时会遇到边缘畸变大而无法拼接。Navigator-100基于半导体工业级电子束检测设备理念设计,畸变小于0.1%。<
2020-11-09 10:47:44
半导体设备巨头ASML展出了可用于7纳米以上先进制程的深紫外曝光机DUV。有报道指出,虽然目前极紫外曝光机,俗称EUV光刻机仍受到美国的技术封锁而无法出口,但...
2020-11-09 10:03:39
套刻精度,主要通过结合激光干涉仪来实现。目前,我国电子束曝光机严重依赖进口,但国外已禁止对中国出售最新型号的...,韩立结合在电工所多年的电子束曝光技术研发经历和应用推广情况,深入探讨了如何在电子束曝光机研制中取得突破,提出了...
2020-11-06 09:59:35