美国恩科优N&Q系列光刻机（MaskAligner)，是全球领先的光刻系统，在光刻领域有超过35年的经验，全球售出1000多套设备，为半导体制造和科研领域提供品质优良稳定的全波段紫外光刻机系统，广泛的应用于半导体光刻工艺制程、微机电MEMS、二极管芯片、发光二极体（LED）芯片制造、生物器件、纳米科技、显示面板LCD等
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