苏州苏大维格科技集团股份有限公司2001年10月注册，2012年在深交所上市，是一家以自主研发的三维光刻设备为核心驱动力，面向信息光子和新型显示领域，进行光电子材料/器件研究和产业化的股份制民营企业。目前公司已发展成为1总部+1创新中心+12个控股子公司，拥有近20万平米厂房，占地600余亩的集团企业。 公司重点攻克了重大微纳装备关键技术，开展“微纳制造装备与仪器”、“微纳界面工程与器件”、“柔性微纳压印”、“功能光电材料与器件”研发与应用；组建了“模块化、知识密集、可升级和快速配置”微纳柔性制造的创新平台；实现与发达国家技术布局与基础同步。在多个方向上持续推进产业链合作创新，形成了重大具有行业影响的应用。纳米光学与智能制造、新材料等领域交叉，已经或将形成一系列重大的目标产品。 仪器装备事业部 团队成功攻克了一系列纳米图形化关键技术难题，包括微纳结构的产生方法、光机系统的性能优化、飞行导航曝光技术、数字光场数据上载与刷新、衬底实时形貌检测与处理、复杂图形和微纳结构的三维计算光刻工艺，大面积非平面衬底上微结构的网络协同的三维光刻制备，其中iGrapher3000大型紫外3D直写光刻装备及关键技术，首次在110吋幅面玻璃基板上实现连续面型、复杂微结构的、大面积平板光电子器件；首次建立海量数据处理能力并转化成所设计的微纳结构形貌；首次建立支持110吋光刻胶板厚胶制程。 围绕中心创新平台建设，苏大维格形成了一支硕、博士为主的高素质产学研协同创新团队百余人。集聚了光学、机械、电子、软件开发、工程应用等专业优秀人才。长期坚持柔性光电子的基础研究、技术创新和装备研制，积累了丰富的研究和应用经验，是国内为数不多的微纳光学领域的高水平创新创业团队。 建有国家博士后科研工作站、江苏省企业院士工作站，获国防创新团队、江苏省创新团队、江苏省高层次创新创业领军人才培育计划、江苏省“333工程”领军人才等荣誉。团队承担或参与863计划、国家重大仪器设备专项、国家自然科学基金重大研究计划、国家国际科技合作计划等多项国家项目，团队成员在国际光学等顶级期刊发表多篇论文，并多次应邀在国际学术会议上作口头报告。