纳恩科技总部位于深圳市南山区，在香港设有研发分公司，公司专注于等离子材料表面处理和真空镀膜技术研发，目前主要产品包括真空等离子磁控溅射镀膜设备，离子溅射仪，等离子刻蚀设备，等离子表面处理设备，辉光放电仪等。 公司核心研发团队来源于香港大学等离子实验室，香港理工大学材料工程学院和美国佐治亚理工学院的微电子学院。团队成员有5年在硅谷开发半导体设备的经验，我们意识到许多现有的半导体等离子处理系统仍在使用十几年前的技术，并且价格昂贵。因此，我们决定将针对半导体行业和核研究开发的的等离子技术引入经济实惠的等离子设备中。 自成立以来，纳恩科技围绕等离子处理系统所需核心电源及底层算法进行技术布局，不断拓展自主设计能力。目前已完成以MCU，ARM为核心的射频芯片开发平台，实现了芯片的结构化和模块化开发。具有模拟、网络阻抗匹配、功率驱动、功率器件、射频和底层核心算法的设计能力，可针对不同细分领域等离子处理系统需求，做出底层硬件组合，提高等离子系统的稳定性和效率。 纳恩科技成立至今已为清华大学、香港大学、华为2012实验室、北京大学、中国科学院、南方科技大学、美国康奈尔大学、宾夕法尼亚大学、等中外众多企业、大学研究机构提供过等离子处理设备和解决方案，并专注于发展面向未来新材料市场的应用技术，助力客户开发出激动人心的新工艺!
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