PPL聚合物笔纳米制造系统（PolymerPenLithography），BPL光束笔纳米制造系统（BeamPenLithography） 使用可达160000到两百万笔尖的阵列，采用蘸笔光刻DPN的方式，将待沉积的材料（墨水）浸蘸在笔尖阵列上，笔尖可控的与基底表面接触，从而在基底表面批量成型所需图案，加工纳米微米图案无需光掩膜，且在平方厘米范围内达到200纳米以下的分辨率，可应用于纳米粒子合成，蛋白阵列，单细胞排布，纳米电路构造、生物芯片、化学检测、微尺度催化反应、分子马达等领域。此设备在国际上属于首个基于聚合物笔光刻(PPL)技术的纳米制造系统和光束笔纳米制造系统（BPL），这两项技术是美国Tera-print公司独有的技术。