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镀层、薄膜最新分析技术

会议时间: 2014-09-16 10:00

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所在公司: 法国HORIBA JobinYvon S.A.S(HORIBA Scientific)

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报告介绍

辉光放电光谱和椭圆偏振光谱仪作为现在最常用的两种镀层、薄膜表征技术。前者主要应用于镀层元素的深度剖析，它能够获得镀层中各元素随深度的分布状况，可以分析几纳米~100多微米的深度，深度分辨率<1nm。后者是一种无损的分析技术，可以精确测量1A~40微米范围内的薄膜，并能表征单层、多层薄膜表面的粗糙度和氧化层，甚至可以获取折射率、消光系数等。
本次课程中我们将会介绍这两种技术的基本原理、可分析的材料，并对主要应用领域及案例进行深度分析。

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