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XPS实验技术和图谱分析基础

会议时间: 2015-10-22 10:00

主讲老师: 葛青亲 | 资深应用专家

所在公司: 赛默飞世尔科技分子光谱

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报告介绍 主讲老师

报告介绍

X射线光电子能谱(XPS) 技术是一种重要的表面分析手段。该技术基于光电效应，采用X射线激发被测样品表面纳米尺度内的原子发射光电子，通过系统探测到所发射光电子的动能等信息，进而实现样品表面的元素种类及化合态的定性和定量的分析。XPS的分析范围广泛，可对从Li到U范围内的元素进行研究，因而不仅被广泛地应用于化学分析、材料开发应用研究、物理理论探讨等学术领域，还被广泛地应用于机械加工、印刷电路技术、镀膜材料工艺控制、纳米功能材料开发等工业领域。

 

本次《XPS实验技术和图谱分析基础》网络讲堂主要涉及一下几个方面：

 

  1. XPS实验技术基础简介
  2. XPS样品制备和影响图谱质量的相关因素探讨
  3. Thermo Avantage软件中图谱的一般处理功能介绍
  4. 复杂XPS图谱介绍
  5. XPS图谱谱峰拟合方法介绍
    1. 单峰拟合
    2. 双峰拟合
    3. 非线性最小二乘拟合

 

主讲老师

葛青亲

葛青亲

赛默飞世尔科技（中国）有限公司 资深应用专家

博士毕业于复旦大学物理系凝聚态物理专业。博士期间从事复杂量子材料的光电子能谱研究，拥有丰富的电子能谱系统操作、搭建和光电子能谱数据处理经验，并多次赴美国、日本、德国、意大利等同步辐射中心进行交流合作，在Nature Physics、Physical Review X等国际一流杂志发表论文10余篇。毕业后加入赛默飞世尔科技（中国）有限公司，现担任应用经理一职，负责XPS、EDS、EM等技术的行业性应用开发。

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XPS实验技术和图谱分析基础

10月22日 10:00

X射线光电子能谱(XPS) 技术是一种重要的表面分析手段。该技术基于光电效应，采用X射线激发被测样品...

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