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筱晓(上海)光子技术有限公司

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线性硅纳米印章(纳米图案硅片)

品牌: LIGHTSMYTH
供货周期: 现货
报价: 面议
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产品介绍

LightSmyth提供了大量的纳米加工单晶硅衬底,为工业和学术机构提供了一个低成本的纳米光子学研究入口。基底可用于光学、光子学、生物学、化学、物理学(如中子散射)、聚合物研究、纳米印迹、微流体学等领域。如果需要,基板可以涂上金属或介质涂层。大多数地表特征具有略微梯形的横截面轮廓,具有直线平行的台地和沟渠。晶格状结构也可用。提供了许多特征尺寸和沟槽深度。基板的扫描电镜图像可以在装运前拍摄,以验证准确的轮廓。


产品特点

Nanopatterned Silicon Stamps


II-VI offers a large variety of nanomachined single crystal silicon substrates providing a low-cost entry into nanophotonics research for industry and academic institutions. The substrates may be used in a variety of applications in optics, photonics, biology, chemistry, physics (e.g. neutron scattering), polymer research, nanoimprinting, microfluidics and others. If desired, the substrates can be coated with metallic or dielectric coating. Most of the surface features have slightly trapezoidal cross-section profiles with straight parallel mesas and trenches. Lattice-like structures are available as well. A number of feature sizes and trench depth is available. SEM images of the substrates may be taken prior to shipment to verify the exact profile.


Dimensions shown in the table represent target value. Period has accuracy better than 0.5% while groove depth and the width of line and space may differ from the target values by 15%. SEM are given for illustration purposes. If more precise dimensional information is required, we may provide an SEM of the specific piece of nanostamp you order as an optional service


通用参数

(LightSmyth Nanopatterned Silicon Stamps 纳米图案硅片)


描述

数据

基材宽度高度误差

标准公差±0.2 mm

净孔径(CA)

距基板边缘0.5 mm(图案可延伸至基板边缘)

基底厚度

0.675 ±   0.050 mm

CA的表面质量

P/N以“p”结尾:划痕/挖:最大划痕宽度,最大最大直径。可提供高达20/10的规格

CA的表面质量

P/N以“-S”结尾:由于表面质量而打折的等级。至少有80%的可用面积。可能出现80/100划痕/挖痕/颗粒和不规则基底形状

CA外表面质量

无要求

Material材料

单晶硅,反应离子刻蚀


2D Nanostamps


Part Number

周期

Period(nm)

晶体类型

Lattice Type

槽深

Groove Depth(nm)

特征宽度

Feature Width(nm)

Size(mm)

S2D-18B2-0808-350-P

600

Rect Post

350

275

8.0 x 8.3

S2D-18B3-0808-350-P

700

Rect Post

350

350

8.0 x 8.3

S2D-18C2-0808-350-P

600

Hex Post

350

240

8.0 x 8.3

S2D-18C3-0808-150-P

700

Hex Post

150

290

8.0 x 8.3

S2D-18C3-0808-350-P

700

Hex Post

350

290

8.0 x 8.3

S2D-18D3-0808-350-P

700

Hex Hole

350

200

8.0 x 8.3

S2D-24B2-0808-150-P

600

Rect Post 

150

195

8.0 x 8.3

S2D-24B2-0808-350-P

600

Rect Post 

350

195

8.0 x 8.3

S2D-24B3-0808-150-P

700

Rect Post 

150

260

8.0 x 8.3

S2D-24B3-0808-350-P

700

Rect Post 

350

260

8.0 x 8.3

S2D-24C2-0808-150-P

600

Hex Post

150

165

8.0 x 8.3

S2D-24C2-0808-350-P

600

Hex Post

350

165

8.0 x 8.3

S2D-24C3-0808-150-P

700

Hex Post

150

220

8.0 x 8.3

S2D-24D2-0808-150-P

600

Hex Hole

150

180

8.0 x 8.3

S2D-24D2-0808-350-P

600

Hex Hole

350

180

8.0 x 8.3

S2D-24D3-0808-150-P

700

Hex Hole

150

290

8.0 x 8.3

S2D-24D3-0808-350-P

700

Hex Hole

350

290

8.0 x 8.3

 



工商信息

企业名称

筱晓(上海)光子技术有限公司

企业信息已认证

企业类型

有限责任公司(自然人投资或控股)

信用代码

913101163987029680

成立日期

2014-06-26

注册资本

人民币1000.0000万元整

经营范围

从事“光电、通信、机械设备、电子、计算机、计算机网络”科技领域内的技术开发、技术咨询、技术服务,机电设备及配件,光电设备及配件,通信设备及相关产品,仪器仪表,电子元器件,计算机、软件及辅助设备,电线电缆,五金交电,建筑材料,日用百货销售,从事货物进出口及技术进出口业务,机电设备安装、维修,计算机软件开发。[依法须经批准的项目,经相关部门批准后方可开展经营活动]

联系方式
线性硅纳米印章(纳米图案硅片)由筱晓(上海)光子技术有限公司为您提供,如您想了解更多关于线性硅纳米印章(纳米图案硅片)价格、规格、特点、分类选择等信息,欢迎咨询厂家。除供应线性硅纳米印章(纳米图案硅片)外,还可为您提供超宽中红外光束质量分析仪(带M2测试,光敏面:10.8×8.7mm)、INT05-N 迈克尔逊 PLX 单片干涉仪 (NIR FTIR 光谱仪的主要光学组件)、WinCamD-LCM-NE 近红外增强型光斑分析仪 (355-1150nm)等耗材,公司有专业的客户服务团队,是您值得信赖的合作伙伴,筱晓光子客服电话400-860-5168转3429。
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