参数:
制备方法:锂基插层法
组成:单分子层,具有小尺寸的二硫化物
外观:黑色粉末或分散体
直径:20-500 nm,主要集中在100-200 nm
厚度:1纳米
单分子层比例:95%
Parameter:
Preparation Method:Lithium-based Intercalation Method
Composition: Monolayer Tungsten disulfide with small size
Appearance: Black powder or dispersion
Diameter: 20-500 nm, mainly concentrate in 100-200 nm
Thickness: ~1 nm
Monolayer ratio: >=95%
企业名称
上海巨纳科技有限公司
企业信息已认证
企业类型
信用代码
310109000501433
成立日期
2009-04-01
注册资本
1000
经营范围
通信设备、光电源、生物科技专业领域内的技术开发、技术转让、技术咨询、技术服务;销售仪器仪表,电子元器件,机械设备及配件,通信设备及相关产品(除卫星地面接收装置),日用百货,从事货物及技术的进出口业务。【企业经营涉及行政许可的,凭许可证件经营】
上海巨纳科技有限公司
公司地址
上海市虹口区宝山路778号海伦国际大厦5楼
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