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新一代光谱成像椭偏仪（Nanofilm_EP4）
新一代的超薄膜、表界面和材料分析测试工具，结合自动消光椭偏技术和传统显微镜技术，横向（X/Y方向）分辨率超过1微米
新一代成像椭偏仪Nanofilm_EP4具有多种独特功能，实现对超薄膜的实时可视化分析测试。你将实时看到样品微观尺度上的结构。可以测量诸如薄膜厚度、折射率和吸收系数等参数。也可以对薄膜进行区域化（选区）分析，获得所选区域的成像分析图。还可以结合其他分析测试技术对样品进行联合分析从而从样品中获取更多的信息，联用技术如原子力显微镜（AFM）、石英晶体微天平（QCMD）、反射光谱仪和拉曼光谱仪。成像椭偏仪Nanofilm_EP4是模块化薄膜分析测试平台，可根据您具体的应用方向进行差异化配置，从而实现不同的分析测试功能
技术优势：
全球最高的椭偏横向分辨率：可分辨超1微米的微小区域，实现微结构试样和微小试样的椭偏分析
新一代成像椭偏技术实现250nm-1700nm连续光谱椭偏分析，提供在宽广波长范围内的样品成像椭偏分析图片。连续光谱测量技术（波长扫描）允许在指定波长对样品进行椭偏分析
实时的椭偏对比度图像，对样品表面进行实时视频图像分析。样品的所有微结构、缺陷、污染和动态变化过程都将一览无余
选区分析技术（专利）实现区域化的椭偏成像分析测试。平行化分析技术让您对多个区域进行同步分析
成像椭偏分析集成平台，实现多种测量技术的联用。从而从样品中获得更多的信息
全画幅聚焦技术可选，完美解决由于椭偏仪斜角入射，物镜焦平面和样品表面相交只能线聚焦样品，因此需要物镜扫描获取全画幅聚焦照片的难题。适用于动态样品的原位分析测试，如自组装单分子层的生长和移动、蛋白质相互作用和水面单分子层的漂移等等
光斑切割技术，真正实现超薄透明基底上薄膜的无背底反射椭偏测试
多种功能拓展附件实现成像椭偏技术在不同应用领域内的多种实用功能，如表面等离子共振（SPR）单元，固/液界面分析单元，光导液/液界面分析单元，微流控分析单元，温度控制单元，电化学分析单元等等
更多产品信息请参考产品样本或者和我们联系
石墨烯的发现和应用前景极大地促进了二维材料的研究，MoS2作为另一种有着极大应用前景的二维材料，近年受到了广泛的关注。成像椭偏仪实现了传统椭偏仪对于亚纳米级薄膜分析优点和光学显微镜对于薄膜区域分析和形貌像分析的优点，近年来也受到了广泛光柱。成像椭偏仪是二维材料研究的有利工具。
消光型成像椭偏仪原理 INTRODUCTION Ellipsometry is a very sensitive optical method, which has been used for about a hundred years to derive information about surfaces. It makes use of the fact that the polarization state of light may change when the light beam is reflected from a surface. If the surface is covered by a thin film (or a stack of films), the entire optical system of film & substrate influences the change in polarization. It is therefore possible to deduce information about the film properties, especially the film thickness. The name ”ellipsometry” implies that it has something to do with an ”ellipse”: The elliptical state of polarization, where the electrical field vector travels along an ellipse when observed at a fixed point in space, is the most general state of polarization. The basic components of an ellipsometer are: a light source, some optical components to modify the polarization and a detector. By using imaging technology, one can extend the classical ellipsometer to a new form of visualization tool or a microscope with extreme sensitivity to thin films.
德国欧库睿因（Accurion）成像椭偏技术常见问题解答 1）成像椭圆偏振仪和传统椭圆偏振仪有什么区别 椭圆偏振是一项精确测量薄膜厚度，折射率等参数的技术，与传统椭圆偏振仪相比，成像椭圆偏振有以下特点： 成像可以让你看到样品 通过CCD相机你可以直接看到样品图片，这样的图片也可以展示椭偏对比度，让你分析样品的均匀性，对于非常薄的膜，只有椭圆偏振对比图可以成像，常规光学显微镜无法做到这一点。 精确定位的测量 你可以看到你的样品，所以你可以精确定位你想要测量的感兴趣点区域。即使样品需要成像，你也可以确保你在均一的地方测量。传统椭圆偏振仪给出的是一个平均数字。成像椭圆偏振给出的不是平均数字，而是实际数字。 更多的，你可以测量线装样品。我们的客户已经成功地在玻璃纤维和人的头发上做了测量。 高横向分辨率 Accurion成像椭圆偏振仪最高横向分辨率可以到1微米，其他传统椭圆偏振仪只有100-500微米，部分仪器可以达到50微米。 正是由于这个原因，我们的系统是测量表面结构，小面积薄膜，或者分析薄膜不均一性的理想仪器。 当然，成像椭圆偏振仪提供的纵向分辨率，根据不同的样品，可以高于1nm. 快速测量 使用Accurion的EP3-View软件，Ep3可以测量厚度分布度，当然包括折射率分布图，这种分布图包含整个可视范围。这种图片类似于原子力显微镜的图片。不需要扫描整个样品，整个过程在小于一分钟内完成。 使用成像椭圆偏振仪，你将有一种快速有效的技术在高分辨率测量微结构或者薄膜不均一性。因此，使用成像椭圆偏振仪EP3你能够确保得到你想要的相关数据。
同传统椭偏仪不同，成像椭偏仪在实现厚度测量时的亚纳米级的精度的同时，还能够获得被测试样的显微图像。这对单层/数层石墨烯的检测极为关键。文献利用Accurion的成像椭偏仪，对数层石墨烯进行了检测分析，并且利用拉曼光谱和原子力显微镜等检测技术的对比，证实了成像椭偏仪在石墨烯领域的应用潜力。
