莱伯泰科Aridus II膜去溶雾化系统
莱伯泰科Aridus II膜去溶雾化系统

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Aridus

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美洲

  • 钻石
  • 第20年
  • 一般经销商
  • 营业执照已审核
该产品已下架
核心参数

仪器简介:

Aridus II膜去溶雾化系统是为各种ICP-MS专门研制的、专业进样系统附件,具有如下特性: 

提高ICP-MS的灵敏度10倍以上 
显著降低氧化物和氢化物水平 
使ICP-MS可以直接分析有机溶剂样品(如甲醇、乙醇等) 
大大改善信号的稳定性 
Aridus II膜去溶雾化系统采用的低流量、Aspire微量雾化器,只需1mL的样品就能分析所有的元素。同时Aridus II进样系统全部采用PFA惰性材料,可应用于含HF酸的样品。独特的废液反抽技术进一步提高了稳定性。



技术参数:

1.提高ICP-MS的灵敏度4~10倍以上
2.专利的PTFE膜去溶技术,减少了溶剂对ICP-MS的干扰,显著降低氧化物和氢化物水平
3.模块化的膜去溶设计,拆装和清洗方便
4.带盖保护的PFA雾化室,避免静电的干扰
5.大大改善信号的稳定性,即使是如甲醇的有机溶剂
6.配备可选的Aspire PFA微量雾化器,样品提升量:50, 100, and 200 µL/min三种可选
7.可与ASX-112FR微量自动进样器相配
8.减小了ICP-MS的干扰 



主要特点:

显著减小ICP-MS的干扰:
Aridus II膜去溶雾化系统能有效去除样品溶剂蒸汽,显著地减少诸如来自水中的氧化物、氢化物的干扰,右图比较了标准气动雾化器与Aridus系统的CeO/Ce 比率,该CeO/Ce比率从3% 减少为0.03%。其他水基的干扰ArH +(39)、CO2+(44)、ArO+(56)有明显的减少,从而使Li、Na、Mg、K、Ca、Fe的检出限得到明显改善。
卓越的信号稳定性:
Aridus II的7小时信号稳定性:RSD<1%(在**的甲醇溶液中加1mg/L的标准)

  • 摘要:建立了膜去溶一ICP—MS直接测定各种地质样品中微量 的分析方法。详细比较了采用冷却雾室和膜去溶对降低氧化物和氢氧化物干扰的情况。结果表明:采用膜去溶进样可以很好地解决测定地质样品时zr、Nb、Y的氧化物和氢氧化物对A暑的干扰。再结合少量N,的引入还可以进一步提高Ag的检测灵敏度(4倍)和降低氧化物和氢氧化物的干扰(50%)。在冷却雾室(2℃)ICP—MS条件下,zr的氧化物和氢氧化物产率通常在一0.5% ;而采用膜去溶一ICP MS可以降低至约0.0005% 。所以,可以采用膜去溶.ICP—MS直接测定各种地质样品中的Ag。在给定的条件下,膜去溶一ICP—MS对Ag的检出限是0.0005 L。结合密闭高温高压消解样品的方法,测定了21种各种类型国际地质标样,确证了本法的可行性。

    地矿 2017-09-06

  • 摘要:研究了不经基体分离,膜去溶一ICP MS法直接测定高纯CeO2中14种痕量稀土杂质的分析方法,讨论了ce基体产生的多原子离子对被测元素的质谱干扰,并且对影响多原子离子产率的因素进行了分析,同时建立了Pr,Gd,rrb和Yb数学校正方程。通过使用膜去溶雾化器和优化ICP.MS参数,消除了Cel ,CeO2 和CeO2H 产生的质谱干扰,将CeO/Ce产率降为0.008% ,同时结合数学校正方程彻底消除了CeO ,CeOH 和CeOH2 的质谱干扰。Pr,Gd,,rb和Yb的方法测定下限分别为0.08,0.1,0.15和0.008 g·g~ ,l4种稀土杂质方法测定下限和为0.75 g·g一。99.999%高纯CeO2实际样品测定加标回收率为96% ~103% ,RSD为1.2% ~4.3% 。 关键词:高纯CeO ;膜去溶;数学校正;ICP.MS;多原子离子干扰;稀土

    钢铁/金属 2017-09-06

  • 摘要:灵敏地检测了高纯钨粉中的痕量金属杂质。钨粉用 02溶解后进入离子色谱的阳离子交换柱,经水淋洗后,用HN03洗脱,洗脱后的溶液经过膜去溶装置雾化去溶后进入电感耦合等离子体质谱检测。除B,V,Sb外,其它杂质元素如Mg,Al,Ti,Cr,Be,Fe,Mn,c0,Ni,cu,zn,Ga,Sr,Cd,Ba等的回收率均在90% 一107%之间,检出限在0.0ol~0.5 gg/g之间。 关键词:痕量元素;高纯钨粉;离子色谱;阳离子交换柱;膜去溶装置;电感耦合等离子体质谱

    钢铁/金属 2017-09-06

  • 摘要:研究了不经基体分离,膜去溶一ICP MS法直接测定高纯CeO2中14种痕量稀土杂质的分析方法,讨论了ce基体产生的多原子离子对被测元素的质谱干扰,并且对影响多原子离子产率的因素进行了分析,同时建立了Pr,Gd,rrb和Yb数学校正方程。通过使用膜去溶雾化器和优化ICP.MS参数,消除了Cel ,CeO2 和CeO2H 产生的质谱干扰,将CeO/Ce产率降为0.008% ,同时结合数学校正方程彻底消除了CeO ,CeOH 和CeOH2 的质谱干扰。Pr,Gd,,rb和Yb的方法测定下限分别为0.08,0.1,0.15和0.008 g·g~ ,l4种稀土杂质方法测定下限和为0.75 g·g一。99.999%高纯CeO2实际样品测定加标回收率为96% ~103% ,RSD为1.2% ~4.3% 。 关键词:高纯CeO ;膜去溶;数学校正;ICP.MS;多原子离子干扰;稀土

    钢铁/金属 2017-09-06

  • 摘要:灵敏地检测了高纯钨粉中的痕量金属杂质。钨粉用 02溶解后进入离子色谱的阳离子交换柱,经水淋洗后,用HN03洗脱,洗脱后的溶液经过膜去溶装置雾化去溶后进入电感耦合等离子体质谱检测。除B,V,Sb外,其它杂质元素如Mg,Al,Ti,Cr,Be,Fe,Mn,c0,Ni,cu,zn,Ga,Sr,Cd,Ba等的回收率均在90% 一107%之间,检出限在0.0ol~0.5 gg/g之间。 关键词:痕量元素;高纯钨粉;离子色谱;阳离子交换柱;膜去溶装置;电感耦合等离子体质谱

    钢铁/金属 2017-09-06

  • 摘要:建立了膜去溶一ICP—MS直接测定各种地质样品中微量 的分析方法。详细比较了采用冷却雾室和膜去溶对降低氧化物和氢氧化物干扰的情况。结果表明:采用膜去溶进样可以很好地解决测定地质样品时zr、Nb、Y的氧化物和氢氧化物对A暑的干扰。再结合少量N,的引入还可以进一步提高Ag的检测灵敏度(4倍)和降低氧化物和氢氧化物的干扰(50%)。在冷却雾室(2℃)ICP—MS条件下,zr的氧化物和氢氧化物产率通常在一0.5% ;而采用膜去溶一ICP MS可以降低至约0.0005% 。所以,可以采用膜去溶.ICP—MS直接测定各种地质样品中的Ag。在给定的条件下,膜去溶一ICP—MS对Ag的检出限是0.0005 L。结合密闭高温高压消解样品的方法,测定了21种各种类型国际地质标样,确证了本法的可行性。

    地矿 2017-09-06

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