对于难挥发的有机物，如涂料中的各种助剂（抗紫外助剂等），包含一些很明显不能被气化的难挥发化合物，能用GCMS来进行测试吗？之前咨询安捷伦的客服告诉我会对进样口的衬管和分流平板还有色谱柱前端造成污染，告诉我基质复杂的样品需要割掉50cm的色谱柱。

1.最关心的是这类类似的化合物（难挥发，高沸点），是否能用GCMS来做？或者有什么推荐的前处理方式吗？因为客户只关心这类助剂中的溶剂信息，虽然基本都是已知的，但是我怕对仪器造成污染导致出现乱七八糟的鬼峰。

2.还有个问题想请教下，假设我程序升温最高285°C，post run设置的305°C 3min，之前好像出现一种情况，sample A和B中都有某难挥发物质C，先走A再走B ，A中未检出C，B中检出，然后换个顺序，先走B再走A，B中无C，A中又有了C，是不是post run中的305°C高温带出来的？

3.最后还有个关于高温裂解的问题，高温裂解器（型号CDS5200）长期走样会导致传输管线污染堵塞，有没有什么好的方式来避免裂解出来的东西在传输管线内冷凝造成污染？目前工程师提供的办法是传输管线设置300°C通N2持续吹扫（裂解温度800°C裂解15s，传输管线最高300°C，interface300°C先烘10分钟溶剂再走裂解程序）还有就是为什么低沸点溶剂在interface中以300°C烘烤10分钟后在GCMS中仍然能检出残留的溶剂？比如甲苯，苯等低沸点溶剂，10分钟后谱图中还有，很明显空白中是不存在的。

麻烦有类似经历的朋友帮忙解决下疑惑，谢谢。