求助-硝酸、氢氟酸、双氧水在硅片检测中的相关问题_ICP-MS_质谱_仪器问答_仪器信息网

未解决的问题：146798
所有仪器问答：170760

共有 2 人回复了该问答求助-硝酸、氢氟酸、双氧水在硅片检测中的相关问题

回复Insm_7eafc8d7发表于：2020/7/8 8:38:49悬赏金额：19积分状态：未解决

ICP-MS，在配制标液的时候都要加硝酸，能起稳定性的作用，请问一下它的工作原理是什么？？？？

在做硅片表面金属检测时，回收液用氢氟酸和双氧水配制，氢氟酸是用来蚀刻硅片表面的氧化层，双氧水是用来做什么的，它的原理又是什么？？？？？？？

麻烦各位大大了！！！

1# xsh1234567 回复于：2020-07-08 17:39:49

不是吧，你用的8900s，培训的时候没和你说过这些基础性东西？？

自己做个试验立马知道：拿个超纯水，不加HNO3，看看里面金属离子，或者配个1/2/5ppt的金属离子溶液（不加硝酸），你可以发现信号值越测越低——超低浓度的金属离子会被器皿有所吸附的。HNO3环境中则会大大改善

高级回复快速回复【花三五分钟，帮别人解决一个问题，快乐自己一天！】

未解决问题