做合成，已知三个杂质，以其中一个杂质作为参照物计算其校正因子。
目的是为了根据峰面积的响应值计算三个杂质真实的一个比值。
按照药典说的内标法：[img=,244,64]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2019/07/201907061139332631_2272_3116636_3.png!w244x64.jpg[/img]来计算，
最终得出的校正因子f，带入杂质计算的时候，是要用待测杂质的峰面积除以参照杂质的峰面积才是体现真实的结果吗……
而合成人员理解的校正因子是乘以参照物的峰面积。
后来我又了解到药典上还有一个主成分自身对照法，这个倒是跟合成人员理解的校正因子相符。
但是我不清楚的是两者有什么区别？按照人员提出的要求来说，哪一个才是他们想要的一个更切合的校正因子呢?
求解答……