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共有 33 人回复了该问答
背景以及基体问题
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Ins_073ace96
发表于:2020/8/27 17:52:11
悬赏金额:
12积分
状态:
未解决
上周石墨炉做pb ,背景峰高0.25左右,今天做,背景峰高0.4左右,打电话询问工程师原因,工程师说可能是石墨锥与石墨管接触不良,导致灰化温度达不到,背景升高,也有可能是样品前处理不完全。到底是什么情况呢?还有我想问问背景高会有什么影响?还有基体复杂是怎么回事?不明白怎么判断样品基体是否复杂,求老师们解答一下
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回复
1#
sdlzkw007
回复于:2020-08-27 18:11:11
情况大多是需要自己对比才能判断了,比如处理的完全与否看你消解或者灰化完成后存在不溶性固体。基质复杂性通过处理过程可见一斑。容易处理的基本上都是简单基质,反之是复杂的。
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