CP-Al2O3 PLOT

分析所有的C1～C5烃
两种独有的选择性
在室温以上分析烃类具最短的分析时间
高分离度(2500plates/meter)
具熔融石英柱和Ultimetal柱

氧化铝PLOT柱专用于分析化学和石化工业中的C1～C5烃分析，CP-Al2O3 PLOT的高选择性使其能分析ppm级的C1～C5烃。由于该PLOT柱不需在室温下操作，因此冷藏设备根本不需要

KCL或Na2SO4脱活

用非常小的盐晶体去活化CP-Al2O3 PLOT柱，可在200℃也能保持重现性和稳定性，根据脱活盐的类型，CP-Al2O3 PLOT柱显示了特定的选择性。KCI导致一个相对非极性的Al2O3表面，而Na2SO4脱活则导致一个极性的表面，这样不饱和的化合物象乙烯和乙炔等保留时间将延长

1、CP-Al2O3/KCl PLOT

最低温度: -100℃
最高温度：200/200℃
近似产品: Alumina

应用:芳香烃 C1-C4烃 C1-C10烃 卤代化合物 烃类中的杂质 永久气体Permanent gases

CP-PoraPLOT Q

用于分析极性和非极性挥发性化合物
更容易控制：在您GC机的正常工作温度下分离挥发性化合物
水洗脱具尖锐峰形，且可量化
独有的保留特性
具熔融石英柱和Ultimetal柱
所有的CP-PoraPLOT 柱均需颗粒捕集阱
最低温度：-100℃
最高温度：250/250℃
和其它CP-PoraPLOT柱的应用比较

PoraPLOT柱 应用领域
Q 醇类和水，极性挥发性化合物 烃 气
S 酮，酯，卤代化合物 烃
U 所有极性挥发性化合物，腈/硝基化合物 醇类/醛类, 乙烷/乙烯，含硫气体 空气中的O2 , 气体中的ppm级水
Amines 氨，非常挥发的胺


CP-PoraPLOT Q-HT

分析非极性挥发性化合物/半挥发性化合物
增加了的最高操作温度： 250 ℃ 到 290 ℃
扩大了应用分析范围可达C12
比CP-PoraPLOT Q 柱流失要降低5-7倍
同样独有的选择性

这种新型CP-PoraPLOT Q-HT柱的最高操作温度比目前现有的PoraPLOT柱要高40℃，这就意味着扩大了应用范围，其结果是挥发性和半挥发性化合物都能分析

技术特点：

最低操作温度：-100℃
最高操作温度：290/290℃
可替代产品：Porapak Q, HayeSep Q, Chromosorb, 102, 105, 106, GSQ

应用:溶剂

CP-PoraBOND Q

无颗粒从毛细管壁上脱落，不需要颗粒捕集阱
最高温度由250℃增加到320℃
延伸了应用范围，可分析烃类达C12
分析非极性挥发性化合物和半挥发性化合物
更长的柱寿命
可进行高精度痕量级杂质分析