偶是用的A家的7900，做半导体wafer表金属含量ppt级检测的，用的是自吸进样。近来发现结果与之前有些不一样：
1. 调谐计数比之前低1000左右，且测纯水金属含量，Na之前CPS约60左右，最近的CPS约10左右。
偶认为是灵敏度降了，将雾化器/雾化室/炬管/锥/透镜都按照相应的维护方法清洗了，锥孔没堵没变大，雾化器测试没堵，结果仍然没有改善。
2. 调谐结果的RSD较之前的高（COOL下之前为2%左右，现在都变成7%左右了）
这些变化有没有和做了几份高纯石英砂有关呢。
对这两个问题，元芳，你怎么看？