回复monicapig发表于:2020/6/28 19:08:54悬赏金额:
14积分 状态:
未解决
各位周末好
电化学小白紧急求助关于电化学工作站的槽压问题,包含以下小问题。。。。
1.槽压是加在哪两个电极之间的?是工作电极和对电极么?是仪器自动施加还是可以根据测试需求调整槽压大小?
2.我们在合作单位在进行循环伏安测试时(扫描电位±5V),发现他们的普林斯顿P4000运行的时候声音很大。。。不知道是否和槽压有必然联系(槽压±48V,貌似比一般的设备都要高啊。。。)如果使用这样的设备,要对一个样品做长时间的循环伏安扫描(比如10个小时),是否会损伤仪器?
3.我们有一些想要进行EIS测试的样品,特点是样品是高阻抗,采用两电极体系,测试的时候是将参比和对电极短接,既施加了交流振幅又加直流电压(5V),请问这个时候还有槽压参与到测试中么?
4.问以上三个问题的主要原因是我们也想买一台电化学工作站,主要测试目的就是长时间的循环伏安扫描和高阻抗体系的EIS测试,比较倾向P4000这台设备,但是不知道高槽压这个特点到底对这两个测试有什么影响,以及设备工作时候的噪声-高槽压-设备容易坏掉 这三者之间不知道是否有关系。也看了看其他设备,如德国zahner,瑞士万通的autolab等,但是Zennium的软件不好用,PGSTAT204貌似出来没多久,所以担心稳定性的问题,而且不知道测阻抗到底行不行。如果有用过以上设备的老师也欢迎给一些指导经验。
因为对电化学知识不熟悉,问的问题也可能不大对路,还请大家不吝赐教。谢谢啦~~