回复v2738929发表于：2013/12/30 21:59:57悬赏金额：
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最近用ICP测铁矿样品，王水+氢氟酸微波消解试样，190度1h，加硼酸饱和溶液后120度挥酸，冷却后定容，开始空白还可以，但是这几次As和SI的空白很大，As有2.6mg/l，si居然有10000mg/l，大家有碰过这种情况吗？做的也不是很频繁的，同样的消解罐做其他样品都可以，但是就是这个不行，还有Al，也有9mg/l，以前做这个样品都不会这样的，不知道是啥原因，大家帮帮忙啊~~
As不知道是什么原因，Si的话在氢氟酸里面本来含量就有点高，我现在用过好几个牌子的氢氟酸，都是优级纯的，空白里面硅含量比较高，但是没有楼主做的这么多，既然以前的可以，这次应该是接触到玻璃了吧。
多做几个平行样品，验正下，平行样之间差异，假如没有差异，可能你们的样品就有，同时测测留样复测样品，看结果有无差异。
怀疑空白被污染 一个空白 单次测定不可靠 建议多做几个空白 多次测定
v2770168 回复于：2013/12/31 10:35:04
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