大家好，我最近想测半导体材料的禁带宽度，将薄膜长在石英片上，150nm左右。通过光谱吸收谱外推法。做了两次实验，
１、实验设备为 紫外可见分光光度计(Lambda 950),扫描范围为 250nm-2500nm,
通过测透过率，外推法测得禁带宽度。
２、实验设备为　傅里叶红外光谱仪（Nicolet　6700）,扫描范围为 400nm-4000nm,　通过测透过率，外推法测得禁带宽度。
两次测试结果差异很大（如下面的图所示）。我想知道要测禁带宽度，这两个仪器都可以吗？第二个实验的波长范围包括第一个的，可以为什么差别这么大呢？我看文献里面都是用第一种实验做出来的。知道的，麻烦告诉一下，谢谢！
外推法：
吸收系数a = - 1/d ln(I/I0)，单位为cm-1，d 为薄膜厚度， （I/I0） 为透过率。光学带隙,对于间接带隙材料可以从(αhν)exp(1/2)随hν 变化的关系曲线，将曲线的线性部分延长至(αhν)exp(1/2)=0得到；对于直接带隙材料可以从(αhν)exp(2)随hν 变化的关系曲线，将曲线的线性部分延长至(αhν)exp(2)=0得到