回复hanc1202发表于:2020/9/2 12:57:50悬赏金额:
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【序號】:1
【作者】:劉立
【篇名】:电子全息与离子致变形貌及磁控溅射成膜机理的计算机模拟研究
【期刊】: 復旦大學
【全文連接】:http://d.wanfangdata.com.cn/Thesis_Y1168856.aspx
【序號】:2
【作者】:吳志瑋
【篇名】:等离子体离子注入表面改性与磁控溅射成膜的计算机模拟研究
【期刊】: 復旦大學
【全文連接】:http://d.wanfangdata.com.cn/Thesis_Y951679.aspx
【序號】:3
【作者】:李庆成
【篇名】:磁控溅射铜薄膜生长过程的蒙特卡罗模拟
【期刊】: 合肥工業大學
【全文連接】:http://cdmd.cnki.com.cn/Article/CDMD-10359-2009155097.htm
【序號】:4
【作者】:M Horkel, K Van Aeken, C Eisenmenger-Sittner, D Depla, S Mahieu and W P Leroy
【篇名】:Experimental determination and simulation of the angular distribution of the metal flux during magnetron sputter deposition
【期刊】: Journal of Physics D: Applied Physics
【全文連接】:http://iopscience.iop.org/0022-3727/43/7/075302