【序號】：1
【作者】：劉立
【篇名】：电子全息与离子致变形貌及磁控溅射成膜机理的计算机模拟研究
【期刊】： 復旦大學 
【全文連接】：http://d.wanfangdata.com.cn/Thesis_Y1168856.aspx
【序號】：2
【作者】：吳志瑋
【篇名】：等离子体离子注入表面改性与磁控溅射成膜的计算机模拟研究
【期刊】： 復旦大學 
【全文連接】：http://d.wanfangdata.com.cn/Thesis_Y951679.aspx

【序號】：3
【作者】：李庆成   
【篇名】：磁控溅射铜薄膜生长过程的蒙特卡罗模拟
【期刊】： 合肥工業大學
【全文連接】：http://cdmd.cnki.com.cn/Article/CDMD-10359-2009155097.htm

【序號】：4
【作者】：M Horkel, K Van Aeken, C Eisenmenger-Sittner, D Depla, S Mahieu and W P Leroy
【篇名】：Experimental determination and simulation of the angular distribution of the metal flux during magnetron sputter deposition
【期刊】： Journal of Physics D: Applied Physics 
【全文連接】：http://iopscience.iop.org/0022-3727/43/7/075302