回复hanc1202发表于:2020/8/8 14:21:46悬赏金额:
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【序號】:1
【作者】:U. Krause , M. List, H. Fuchs
【篇名】:Requirements of power supply parameters for high-power pulsed magnetron sputtering
【期刊】:Thin Solid Films Volume 392, Issue 2, 30 July 2001, Pages 196-200
【全文連接】:http://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S0040609001010276
【序號】:2
【作者】:佟洪波 柳青 巴德純 TONG Hong-bo LIU Qing BA De-chun
【篇名】:反应磁控溅射研究进展
【期刊】:真空 2008, 45(3)
【全文連接】:http://d.wanfangdata.com.cn/periodical_zk200803013.aspx
【序號】:3
【作者】:茅昕輝 陳國平 蔡炳初
【篇名】:反应磁控溅射的进展
【期刊】:真空 2001, (4)
【全文連接】:http://d.wanfangdata.com.cn/Periodical_zk200104001.aspx
【序號】:4
【作者】:李芬; 朱穎; 李劉合; 盧求元; 朱劍豪;
【篇名】:磁控溅射技术及其发展
【期刊】:真空電子技術 , 2011年 03期
【全文連接】:http://cnki50.csis.com.tw/kns50/detail.aspx?QueryID=3&CurRec=17
【序號】:5
【作者】:宋瑞良 張毅 劉瑋 蔡永安 于濤 孫云
【篇名】:磁控溅射ZAO薄膜的磁场研究
【期刊】:第十一屆中國光伏大會暨展覽會論文集
【全文連接】:http://www.pv001.net/22/5/5452.html