【序號】：1

【作者】：U. Krause , M. List, H. Fuchs

【篇名】：Requirements of power supply parameters for high-power pulsed magnetron sputtering

【期刊】：Thin Solid Films Volume 392, Issue 2, 30 July 2001, Pages 196-200 

【全文連接】：http://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S0040609001010276

【序號】：2

【作者】：佟洪波    柳青    巴德純    TONG Hong-bo    LIU Qing    BA De-chun

【篇名】：反应磁控溅射研究进展

【期刊】：真空 2008, 45(3)   

【全文連接】：http://d.wanfangdata.com.cn/periodical_zk200803013.aspx

【序號】：3

【作者】：茅昕輝    陳國平    蔡炳初

【篇名】：反应磁控溅射的进展

【期刊】：真空 2001, (4)   

【全文連接】：http://d.wanfangdata.com.cn/Periodical_zk200104001.aspx

【序號】：4

【作者】：李芬; 朱穎; 李劉合; 盧求元; 朱劍豪;

【篇名】：磁控溅射技术及其发展

【期刊】：真空電子技術 ,  2011年 03期 

【全文連接】：http://cnki50.csis.com.tw/kns50/detail.aspx?QueryID=3&CurRec=17

【序號】：5

【作者】：宋瑞良 張毅 劉瑋 蔡永安 于濤 孫云

【篇名】：磁控溅射ZAO薄膜的磁场研究

【期刊】：第十一屆中國光伏大會暨展覽會論文集 

【全文連接】：http://www.pv001.net/22/5/5452.html