【序號】：1

【作者】：王春

【篇名】：中频磁控溅射制备氮化硅薄膜及其性能的研究

【期刊】：大連理工大學   

【全文連接】：http://cnki50.csis.com.tw/kns50/detail.aspx?QueryID=580&CurRec=1

【序號】：2

【作者】：賈曉昀

【篇名】：磁控溅射制备氮化硅薄膜特性研究

【期刊】：北京交通大學     

【全文連接】：http://cnki50.csis.com.tw/kns50/detail.aspx?QueryID=617&CurRec=14

【序號】：3

【作者】：王春; 牟宗信; 劉冰冰; 臧海榮; 牟曉東;

【篇名】：中频孪生靶非平衡磁控溅射制备氮化硅薄膜及其性能(英文)

【期刊】：材料科學與工程學報 , 2011年 03期     

【全文連接】：http://cnki50.csis.com.tw/kns50/detail.aspx?QueryID=192&CurRec=4

【序號】：4

【作者】：景鳳娟; 張琦; 冷永祥; 孫鴻; 楊蘋; 黃楠;

【篇名】：非平衡磁控溅射制备氮化硅薄膜及其性能研究

【期刊】：真空科學與技術學報 ,2009年 05期       

【全文連接】：http://cnki50.csis.com.tw/kns50/detail.aspx?QueryID=192&CurRec=22

【序號】：5

【作者】：劉濤;

【篇名】：氮化硅反应溅射源的设计及其薄膜工艺实现

【期刊】：記錄媒體技術 ,2008年 06期         

【全文連接】：http://cnki50.csis.com.tw/kns50/detail.aspx?QueryID=192&CurRec=33