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共有 6 人回复了该问答
求大神帮忙,单晶Si的TEM制样问题?
回复
goming
发表于:2020/7/12 14:14:22
悬赏金额:
4积分
状态:
未解决
小弟最近在做一个Si的TEM样品,实验室凹坑仪很不好用
1。不知手工磨到20微米后直接上离子减薄是否可行?
2。还有,20微米厚的硅片离子减薄一般大概要减多久出孔?(离子减薄仪是Gatan的,5kv,10°)
3。硅片粘在铜环还是Mo环好?书上说Mo环有很高的强度和刚性。小弟将Si粘铜环磨了2个样,最后都感觉Si碎掉了,是因为铜环刚性不足么?
希望各位路过的大神多多指点,小弟万分感激!!
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回复
1#
lylsg555
回复于:2020-07-12 15:15:22
你的制样过程还挺有意思的,写篇原创分享下?
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