回复scientific发表于：2005/12/7 13:07:00悬赏金额：
20积分 状态：
已解决
当绝缘样品经过长时间的氩离子轰击后，可能会导致样品表面累积大量的正电荷，荷电位移可以高达一百多电子伏特。
累积的正电荷会随时间逐渐转移走，荷电位移因此逐渐减少，但很长时间都不能够稳定。例如窄扫过程中扫第一个元素时位移50eV，扫最后一个元素时位移40eV。使得荷电校正非常困难。
请教你们在实践中是否曾经遇到这个问题？如何避免该问题的发生？
我们的离子枪型号时EX05。曾经尝试在样品表面覆盖金属网以提高样品的导电性，但是效果不明显。
不对吧!您枪的型号跟我们的一样!EX05啊!
我还以为您跟我们的一样呢!也可以调节电压.
看来我还是知道的少!
不会的，大家都会考虑到这个问题的，刻蚀的面积大于x－ray束斑的面积，你想谁做也会 首先考虑这个问题。
原文由 feixiong5134 发表:
哦，是这样的，但是我觉得哪个可能有误差啊！ |
peem 回复于：2005/12/7 14:39:00
电子枪中和
feixiong5134 回复于：2005/12/9 22:16:00
您现在的位置：
