回复PPDDPPDD发表于：2010/6/19 10:14:20悬赏金额：
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已解决
最近试验中遇到一个棘手问题，就是透明样品的法向发射率测量问题。样品其实就是硅片。
目前的实现方案：
硅片压在加热器上加热（例如300度），测量其发射光谱，利用该光谱和标准黑体比较计算发射率。
问题：
从理论上讲，硅片是透红外光的，因此加热器的背景辐射也透了过来，这就导致了测量得到的发射率偏高。
虽然加热器的背景辐射很容易测量出来，但无法知道样品此时的反射率和透射率（似乎目前国内有测量高温反射率的地方，但还没有测量高温透射率的机构）因此，无法进行计算。
不知道大家有没有什么高招啊？
zwyu 回复于：2010/9/19 17:22:35
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