我们公司用agilent的icp-ms7500cs测试单晶硅片表面的金属。先用HF溶解下硅表面，再用ICP-MS测试HF的金属浓度，然后扣除HF的背景，换算回去为硅表面金属。
以前测试出来结果都是：Al 5E+10atoms/cm2 其他金属（K Ca Na Mg  Fe Cu CO Mn Cr ）1E+10atoms/cm2

最近测试出来结果变为：Al 70E+10atoms/cm2左右了， 其他金属（  Mg  Fe Cu CO Mn Cr ）还好，1E+10atoms/cm2 的样子。（K Ca Na ）5E+10atoms/cm2
变高的很快，也就1，2天时间变了上去了。 中间时间没测什么特别的东西。

即：Al变高了10倍以上，K Ca Na变高了5倍，其他金属没变。

测试全厂硅片都一样，所以怀疑厂务或ICP-MS自己的问题。

ICP-MS方面：
可能会存在Al沉积问题，因为有时（测试频率一定的）会测Al很高（10000E+10atoms/cm2）但以前也测，频率没变过。
雾化器，雾化室，巨管，锥都洗过好几次。就透镜还没洗。
调谐ok的。RSD 3.5%左右，有点高了。
一直用冷浆600w测试。

厂务方面：
怀疑厂务水部干净：
看水中Al的信号值（count）由以前的20变成80左右了，但用标准加入法测试的话，Al的含量没什么变化，维持8ppt左右，
Ar气压力比以前有点不稳定。
怀疑厂务抽风可能有变化，但我们没装压力表。
或者冷却水的压力？
但以上三项好想和Al没多大关系。没有足够的证据去说服厂务安装。

大家能不能帮忙想想，什么东西会让Al突然变高10倍，希望能从ICP和厂务两方面找原因。