回复shxie发表于：2009/5/24 19:06:00悬赏金额：
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今天翻一篇文献，里面提到Hobbs, L.W.对于TEM里面的辐照损伤的两篇文献。
Hobbs, L.W., Radiation effects in anylysis by TEM.
Quantitative Electron Microscopy (Chapman, J.N. and Craven, A.J.,eds)
399-445(Scottish Universities Summer School in Physics, Edinburgh 1984)
Hobbs, L.W., Electron-beam sensitivity in inorganic specimens,
Ultramicroscopy 23(1987)339-344
没办法看这两篇文献，不过我记起以前ustb曾经说过辐照损伤分为两种，对有机物的辐照损伤和对沸石分子筛的那种是不同的，前者可以采用低电压即可有效避免，而后者则反而需要采取高加速电压，这其中的分别究竟何在呢？
原文由 drizzlemiao 发表:
原文由 iamikaruk 发表:
原文由 shxie 发表:
清华有这个杂志1995年前的权限么？我这里只有1995年后的，学校牛了还是好啊。 |
也没有，最近很多期刊都欠费了看不了 |
那么多经费都盖楼种草了。 |
要真这样也就好了
原文由 iamikaruk 发表:
原文由 shxie 发表:
清华有这个杂志1995年前的权限么？我这里只有1995年后的，学校牛了还是好啊。 |
也没有，最近很多期刊都欠费了看不了 |
那么多经费都盖楼种草了。
ustb 回复于：2009/5/25 9:21:40
基本上就是iamikaruk和drizzlemiao说得意思，你可以看看下面的文献，上面讲的多一些。
Csencsits R and Gronsky R．Damage of zeolite Y in the TEM and its effects on TEM images．Ultramicroscopy，1987，23：421~432
handsomeland 回复于：2009/5/25 13:57:03
Damage of zeolite Y in the TEM and its effects on TEM images---Ultramicroscopy.pdf
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