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共有 12 人回复了该问答Source CID大家谈
 回复juju11发表于:2009/2/20 16:45:29悬赏金额:70积分 状态:已解决
Source CID 即Source Collision induced dissociation,源内的碰撞诱导解离,通常在真空接口处调节电压会发生CID现象,一般是用来去除溶剂,如果电压增大,也会产生碎片离子。

那么在大家所用的液质联用仪中,源区的哪个参数调节后会影响或者产生这种现象呢?如果遇到这种现象,你是怎么处理的呢?这种现象的产生对于你的检测是有利的,还是有害的?这种现象的产生对我们定量会不会有影响,有什么样的影响呢?
欢迎大家结合自己的经历,与大家一起分享一下。请大家在回帖时把仪器的具体型号、对应的仪器参数名称,和所做的化合物名称、性质等介绍详细一些。
sat 回复于:2009/2/27 22:42:32
原文由 juju11 发表:
Source CID 即Source Collision induced dissociation,源内的碰撞诱导解离,通常在真空接口处调节电压会发生CID现象,一般是用来去除溶剂,如果电压增大,也会产生碎片离子。

那么在大家所用的液质联用仪中,源区的哪个参数调节后会影响或者产生这种现象呢?如果遇到这种现象,你是怎么处理的呢?这种现象的产生对于你的检测是有利的,还是有害的?这种现象的产生对我们定量会不会有影响,有什么样的影响呢?
欢迎大家结合自己的经历,与大家一起分享一下。请大家在回帖时把仪器的具体型号、对应的仪器参数名称,和所做的化合物名称、性质等介绍详细一些。


我们首先来看CID,Collision induced dissociation中译是碰撞诱导解离,至少要有两个条件才能形成:1、合适的碰撞介质(碰撞气)2、可控的能量————这就是说要在设置的碰撞区域形成合适密度的碰撞气分子,然后通过可控的能量加速所需要的离子(经过质量分析器筛选的),让这些离子以合适的能量(动能)撞上碰撞气分子,从而产生碎片。碰撞气用的比较多的有He, Ar, N2, 一般都要求高纯的,以便达成密度,粒度(分子大小)都均匀的碰撞环境。

现在来看Source CID,Source Collision induced dissociation,source,源区,源区是由常压向高真空过渡的区域,在这个逐级变化的区域内,会有那么一块的气压值接近真正碰撞室的地方。那么也就提供了类似CID的介质条件。但是,请注意,此处的气体是不纯的,甚至可以说是脏的。各种空气中含有的成分,各种Probe汽化出来的溶剂,甚至小的危及完全气化溶剂颗粒,杂质颗粒等等。
好,现在来看需要碰撞的离子。在CID中,这些离子是经过质量分析器选择的,是纯度很高的某一个或者数个m/z的离子流。而在SourceCID区域,没有经过质量分析器,或者是一个非常简易的分析器,离子流是极端不纯的,几乎所有经Probe形成的离子都会和刚才提到的不纯的碰撞气产生碰撞。效果可想而知了。

Source CID的作用,主要在于减少M+H20,2M+, 3M+等等,从而增加需要的母离子的强度。次要作用是通过施加一个较小的能量,提高离子流的动能,从而一定程度上提高信号,特别是m/z较大的。
expl 回复于:2009/3/3 22:03:42
原文由 peterhello 发表:
agilent仪器中好像叫fragment voltage,范围是70V-250V好像
电压增加可以提高离子的传输效率,对于大分子效果明显一点
曾经分析过一个m/z 1500左右的多肽,随便电压和响应正相关,220V以后稍有下降可能是出现了源内CID


Agilent的应该叫Fragmentor Voltage (碎裂电压),一般来说分子量越大,电压也要大一些,不过也不能设太高,要考虑是否发生源内CID,这个参数也是要优化的较重要的条件。
dickwang2008 回复于:2009/2/27 11:09:39
原文由 peterhello 发表:
agilent仪器中好像叫fragment voltage,范围是70V-250V好像
电压增加可以提高离子的传输效率,对于大分子效果明显一点
曾经分析过一个m/z 1500左右的多肽,随便电压和响应正相关,220V以后稍有下降可能是出现了源内CID


是的,如果这个值太大,引起源内CID,这就相当于增加碰撞能,产生碎片离子。
xhcb2007 回复于:2009/2/26 9:26:15
TSQ里面的skimmer就是这个东东。

主要除去水和分子,还有溶剂簇。

一般的组分都是0~~5之间样子,如果你觉得和信号都很高基线太高,可以手动调高一些,系统自动优化一般都是0,因为它只看是信号水平的。


原文由 zhufangwei 发表:
原文由 juju11 发表:
Source CID 即Source Collision induced dissociation,源内的碰撞诱导解离,通常在真空接口处调节电压会发生CID现象,一般是用来去除溶剂,如果电压增大,也会产生碎片离子。

那么在大家所用的液质联用仪中,源区的哪个参数调节后会影响或者产生这种现象呢?如果遇到这种现象,你是怎么处理的呢?这种现象的产生对于你的检测是有利的,还是有害的?这种现象的产生对我们定量会不会有影响,有什么样的影响呢?
欢迎大家结合自己的经历,与大家一起分享一下。请大家在回帖时把仪器的具体型号、对应的仪器参数名称,和所做的化合物名称、性质等介绍详细一些。


Thermo TSQ三重四级杆好像没有这样的参数,还是我自己不知道。
peterhello 回复于:2009/2/24 10:04:21
agilent仪器中好像叫fragment voltage,范围是70V-250V好像
电压增加可以提高离子的传输效率,对于大分子效果明显一点
曾经分析过一个m/z 1500左右的多肽,随便电压和响应正相关,220V以后稍有下降可能是出现了源内CID
 回复  2# zhufangwei  回复于:2009/2/21 16:40:55
原文由 juju11 发表:
Source CID 即Source Collision induced dissociation,源内的碰撞诱导解离,通常在真空接口处调节电压会发生CID现象,一般是用来去除溶剂,如果电压增大,也会产生碎片离子。

那么在大家所用的液质联用仪中,源区的哪个参数调节后会影响或者产生这种现象呢?如果遇到这种现象,你是怎么处理的呢?这种现象的产生对于你的检测是有利的,还是有害的?这种现象的产生对我们定量会不会有影响,有什么样的影响呢?
欢迎大家结合自己的经历,与大家一起分享一下。请大家在回帖时把仪器的具体型号、对应的仪器参数名称,和所做的化合物名称、性质等介绍详细一些。


Thermo TSQ三重四级杆好像没有这样的参数,还是我自己不知道。
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