无卤素分析及其测试方法


一、  前言



  继无铅制程后，新一波的绿色电子浪潮～无卤素(Halogen-free)将再次席卷全球之电子产业。在即将开始实施的挪威RoHS法令中，已明确规范十八种必须排除的有害物质，第一类群组即为溴系难燃剂，包括六环溴十二烷(HBCDD)与印刷电路板中最常用的四溴丙二酚(TBBPA)等。除了国际间将陆续订定相关法律外，国际大厂包括ASUS、Dell、HP、Apple、Intel、AMD等公司亦声明将自2008年开始导入无卤素材料。



卤素材料是指在周期表中的氟(F)、氯(Cl) 、溴(Br) 、碘(I) 、砹(At)，主要是在做阻燃的功能，被广泛应用在电子设备及它的副件包括机器盒、印制电路板、缆绳导线、塑料零件及包装材料。电子零组件与材料、电子产品的接著技术、产品外壳 (Housing)，PP、ABS、PMMA、PC…、塑胶、色料等。









国际组织或大厂如IEC、IPC、JPCA及三星等均已定义其无卤素材料的规格.

二、  无卤素分析



仪器分析上，能分析卤素浓度最常使用的分析仪器分别为ED-XRF(X荧光光谱仪)及IC(离子层析仪)两种。



X-光荧光分析仪 (X-ray Fluorescence Spectrometer, XRF )系利用X-光束照射试片以激发试片中的元素，当原子自激发态回到基态时，侦测所释放出来的荧光，经由分析仪分析其能量与强度后，可提供试片中组成元素的种类与含量。



离子色谱法是利用离子交换的原理，使待测定的离子在流动相与固定相间的不同亲和力而得以分离，采用电导检测器测定，根据各成分的保留时间定性，利用色谱峰面积定量的分析方法。检测限可以达到ppb的分析水平。目前根据BS EN14582:2007标准，就是氧弹燃烧利用离子色谱仪分析卤素。