个人觉得对于多孔硅，漫反射比较好，压片的话，信号弱，若加大量对于压片来说又会使峰变得不尖锐。

[quote]原文由 xiafei_211 发表:
首先祝坛友圣诞快乐！
我一朋友做得多孔硅IR，让我帮忙看下，但是我对无机物的红外做得比较少，有几个问题想请教大家。
1.无机物的红外用量跟有机物的一样？
2.压片与漫反射哪个更好？
3.用量不同,峰强度变化很大？部分峰变强，部分峰变弱。

1. 我们平时压片的时候加入溴化钾0.2g左右。被测的物质大概占1%就可以了，但是没有准确去称量，加入少量就可以了。
２．实验室有同时用压片和漫反射，在我看来压片比较麻烦，但是做的好效果肯定会比漫反射好。同一个样品漫反射做出来的误差都比压片大。
３．这个没有考究过，但是用量不同，强度肯定有变化，但是整体性偏移或如你所说的就没有留意过。

我一般都是压片的。。。。

多孔硅什么结构啊，LZ介绍一下，呵呵，在网上没找到相关资料。